Triklorosilana

senyawa kimia

Triklorosilana adalah senyawa anorganik dengan rumus HSiCl3. Senyawa ini merupakan cairan yang tidak berwarna dan tidak stabil. Triklorosilana yang telah dimurnikan merupakan pendahulu silikon yang sangat murni dalam industri semikonduktor. Jika dicampur dengan air, triklorosilana akan langsung berdekomposisi menjadi polimer silikon dan asam klorida. Triklorosilana sangat reaktif, sehingga sering digunakan dalam proses sintesis senyawa organik yang mengandung silikon.[1]

Triklorosilana
Nama
Nama IUPAC
Triklorosilana
Nama lain
silil triklorida, silikokloroform
Penanda
Model 3D (JSmol)
3DMet {{{3DMet}}}
ChemSpider
Nomor EC
Nomor RTECS {{{value}}}
UNII
Nomor UN 1295
  • InChI=1S/Cl3HSi/c1-4(2)3/h4H YaY
    Key: ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N YaY
  • InChI=1/Cl3HSi/c1-4(2)3/h4H
    Key: ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYAH
  • Cl[SiH](Cl)Cl
Sifat
HCl3Si
Massa molar 135,45 g/mol
Penampilan colourless liquid
Densitas 1.342 g/cm3
Titik lebur −1.266 °C (−2.247 °F; −993 K)
Titik didih 318 °C (604 °F; 591 K)
hidrolisis
Bahaya
Lembar data keselamatan ICSC 0591
Sangat mudah terbakar (F+)
Berbahaya (Xn)
Korosif (C)
Frasa-R R12, R14, R17, R20/22, Templat:R29, R35
Frasa-S S2, S7/9, S16, S26, S36/37/39, S43, S45
Titik nyala −27 °C (−17 °F; 246 K)
185 °C (365 °F; 458 K)
Ambang ledakan 1.2–90.5%
Senyawa terkait
Related klorosilana
Klorosilana
Diklorosilana
Diklorometilsilana
Klorodimetilsilana
Silikon tetraklorida
Senyawa terkait
Trifluorosilana
Tribromosilana
Kloroform
Kecuali dinyatakan lain, data di atas berlaku pada suhu dan tekanan standar (25 °C [77 °F], 100 kPa).
N verifikasi (apa ini YaYN ?)
Referensi

Produksi

sunting

Triklorosilana diproduksi dari reaksi silikon dengan asam klorida pada suhu 300 °C. Hidrogen juga dihasilkan dalam prosesnya.

Si + 3 HCl → HCl3Si + H2

Produk sampingan utama dalam reaksi ini adalah silikon tetraklorida (rumus kimia SiCl4), heksaklorodisilana (Si2Cl6), dan diklorosilana (H2SiCl2). Triklorosilana dapat dipisahkan lewat proses distilasi.

Triklorosilana juga dapat dihasilkan dari silikon tetraklorida:[2]

Si + 3 SiCl4 + 2 H2 → 4 HSiCl3

Kegunaan

sunting

Triklorosilana adalah bahan dasar yang digunakan dalam proses produksi polisilikon yang telah dimurnikan.

HSiCl3 → Si + HCl + Cl2

Bahan hidrosililasi

sunting

Lewat proses hidrosililasi, triklorosilana merupakan pendahulu senyawa organosilikon lainnya yang berguna:

RCH=CH2 + HSiCl3 → RCH2CH2SiCl3

Referensi

sunting
  1. ^ Lianhong Xu, Ravi Kurukulasuriya, "Trichlorosilane" Encyclopedia of Reagents for Organic Synthesis, 2006. doi:10.1002/047084289X.rt213.pub2
  2. ^ Simmler, W. (2005), "Silicon Compounds, Inorganic", Ullmann's Encyclopedia of Industrial Chemistry, Weinheim: Wiley-VCH, doi:10.1002/14356007.a24_001