Berkas:Photolithography etching process.svg
Ukuran pratayang PNG ini dari berkas SVG ini: 120 × 600 piksel Resolusi lainnya: 48 × 240 piksel | 96 × 480 piksel | 153 × 768 piksel | 204 × 1.024 piksel | 409 × 2.048 piksel | 512 × 2.560 piksel.
Ukuran asli (Berkas SVG, secara nominal 512 × 2.560 piksel, besar berkas: 8 KB)
|
Berkas SVG ini memiliki teks yang bisa diterjemahkan ke bahasa lain, dengan menggunakan editor SVG, editor teks atau Alat terjemahan SVG. Untuk informasi lebih lanjut lihat: About translating SVG files. |
W3C-validity not checked.
Ringkasan
| Deskripsi |
English: Simplified illustration of dry etching using positive photoresist during a photolithography process in semiconductor microfabrication. Note: Not to scale. |
| Sumber | Karya sendiri |
| Pembuat | Cmglee |
| Versi lainnya |
|
.svg)
Lisensi
Saya, pemilik hak cipta dari karya ini, dengan ini menerbitkan berkas ini di bawah ketentuan berikut:
Berkas on ipartandoan sian on Creative Commons Attribution-Share Alike 3.0 Unported partadoan.
- Anda diizinkan:
- untuk berbagi – untuk menyalin, mendistribusikan dan memindahkan karya ini
- untuk menggubah – untuk mengadaptasi karya ini
- Berdasarkan ketentuan berikut:
- atribusi – Anda harus mencantumkan atribusi yang sesuai, memberikan pranala ke lisensi, dan memberi tahu bila ada perubahan. Anda dapat melakukannya melalui cara yang Anda inginkan, namun tidak menyatakan bahwa pemberi lisensi mendukung Anda atau penggunaan Anda.
- berbagi serupa – Apabila Anda menggubah, mengubah, atau membuat turunan dari materi ini, Anda harus menyebarluaskan kontribusi Anda di bawah lisensi yang sama seperti lisensi pada materi asli.
|
Diizinkan untuk menyalin, mendistribusikan dan/atau memodifikasi dokumen ini di bawah syarat-syarat Lisensi Dokumentasi Bebas GNU, Versi 1.2 atau lebih baru yang diterbitkan oleh Free Software Foundation; tanpa Bagian Invarian, tanpa Teks Sampul Depan, dan tanpa Teks Sampul Belakang. Salinan lisensi dimasukkan ke bagian yang berjudul Lisensi Dokumentasi Bebas GNU. |
Anda dapat memilih lisensi pilihan Anda.
Riwayat berkas
Klik pada tanggal/waktu untuk melihat berkas ini pada saat tersebut.
| Tanggal/Waktu | Miniatur | Dimensi | Pengguna | Komentar | |
|---|---|---|---|---|---|
| terkini | 17 April 2022 08.27 | | 512 × 2.560 (8 KB) | Djiboun | File uploaded using svgtranslate tool (https://svgtranslate.toolforge.org/). Added translation for fr. |
| 20 Juni 2020 13.18 |  | 512 × 2.560 (5 KB) | Mega deppa | Reverted to version as of 16:52, 9 October 2011 (UTC) | |
| 20 Juni 2020 13.16 |  | 512 × 2.560 (8 KB) | Mega deppa | File uploaded using svgtranslate tool (https://svgtranslate.toolforge.org/). Added translation for ja. | |
| 9 Oktober 2011 16.52 |  | 512 × 2.560 (5 KB) | Cmglee | Align text, change enumeration and change colour to match Image:CMOS_fabrication_process.svg. | |
| 30 September 2011 22.03 |  | 512 × 2.560 (5 KB) | Cmglee | Merge develop and remove exposed photoresist. | |
| 29 September 2011 22.46 |  | 512 × 2.926 (5 KB) | Cmglee | Fix text alignment. | |
| 29 September 2011 22.39 |  | 512 × 2.926 (5 KB) | Cmglee | Fix text alignment. | |
| 29 September 2011 22.37 |  | 512 × 2.926 (5 KB) | Cmglee | Fix text alignment. | |
| 29 September 2011 22.30 |  | 512 × 3.413 (5 KB) | Cmglee | {{Information |Description ={{en|1=Simplified illustration of dry etching using positive photoresist during a photolithography process in semiconductor microfabrication. }} |Source ={{own}} |Author =Cmglee |Date |
Penggunaan berkas
Halaman berikut menggunakan berkas ini:
Penggunaan berkas global
Wiki lain berikut menggunakan berkas ini:
- Penggunaan pada ar.wikipedia.org
- Penggunaan pada ca.wikipedia.org
- Penggunaan pada en.wikipedia.org
- Penggunaan pada en.wikibooks.org
- Penggunaan pada fa.wikipedia.org
- Penggunaan pada fr.wikipedia.org
- Penggunaan pada ja.wikipedia.org
- Penggunaan pada www.wikidata.org
